四川久光科技有限公司專注于衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列元件、DOE元件等微結(jié)構(gòu)光學(xué)的研發(fā)與生產(chǎn)，公司正式成立于2015年，現(xiàn)有專業(yè)科研成員20余名，公司位于成都市雙流區(qū)西南航空港經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)工業(yè)集中區(qū)(西航港科技企業(yè)孵化中心)。

      微結(jié)構(gòu)光學(xué)是指以微、納米尺度結(jié)構(gòu)對(duì)光波參量進(jìn)行操控的研究方向；我司微結(jié)構(gòu)光學(xué)研究團(tuán)隊(duì)以發(fā)展微納結(jié)構(gòu)光學(xué)設(shè)計(jì)、微納結(jié)構(gòu)核心光學(xué)元件制備工藝及集成化新型光學(xué)系統(tǒng)為宗旨。在國家、省部委重大工程及國民經(jīng)濟(jì)需求的牽引下，已經(jīng)形成了全套的、系統(tǒng)的微納結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與制備工藝體系。

      我司研發(fā)人員在國際上提出了全新的“掩模移動(dòng)濾波”微結(jié)構(gòu)成形技術(shù)，攻克了“任意排列、非球面面形”微透鏡陣列的成形難題（APPLIED PHYSICS LETTERS 89, 261105 2006），形成了規(guī)則/非規(guī)則排布、高填充因子、無正交性誤差的微結(jié)構(gòu)（包括位相片、微透鏡）成形工藝； 在此基礎(chǔ)上，研究團(tuán)隊(duì)通過校正光刻與刻蝕工藝過程中的非線性誤差，實(shí)現(xiàn)了微結(jié)構(gòu)光學(xué)元件面形的準(zhǔn)確控制。實(shí)現(xiàn)了低像差、成像級(jí)微光學(xué)結(jié)構(gòu)制備。

      2015年，研究團(tuán)隊(duì)針對(duì)“掩模移動(dòng)濾波技術(shù)”進(jìn)行再次改進(jìn)，通過對(duì)掩模進(jìn)行二維編碼調(diào)控，建立了全新的“二維移動(dòng)濾波技術(shù)”。該技術(shù)在保留“掩模移動(dòng)濾波技術(shù)”所有優(yōu)點(diǎn)的基礎(chǔ)上，使移動(dòng)濾波掩模的灰度等級(jí)提升了近10倍，實(shí)現(xiàn)了無散斑、低旁瓣、高能量利用率微透鏡陣列的準(zhǔn)確成形。

      經(jīng)過不斷的發(fā)展，研究團(tuán)隊(duì)建立了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)、集微光學(xué)器件設(shè)計(jì)、加工制作、檢測(cè)全過程的微結(jié)構(gòu)光學(xué)平臺(tái)。研究團(tuán)隊(duì)是國內(nèi)能夠?qū)崿F(xiàn)非球面面形、非規(guī)則排布微透鏡陣列制備的研究隊(duì)伍，相關(guān)產(chǎn)品已經(jīng)在自適應(yīng)光學(xué)、CCD增強(qiáng)耦合、ICF光學(xué)系統(tǒng)像差校正等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。我司將繼續(xù)本著“技術(shù)開拓、服務(wù)大眾”的原則，為國內(nèi)外用戶提供精密的、可靠的、快速的產(chǎn)品與服務(wù)，歡迎相關(guān)企業(yè)及科研院所來電咨詢，合作研究。

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